В приборах серии XDLM в качестве источника рентгеновского излучения используется микрофокусная трубка, позволяющая выполнять измерения на мелких структурах и улучшающая возбуждение низкоэнергетических компонентов. Кроме того, эти приборы оборудуются автоматически сменяемыми диафрагмами и фильтрами, позволяющими гибко создавать оптимальные условия возбуждения при решении различных измерительных задач. В обеих сериях детектором служит пропорциональная счетная трубка. Увеличенная площадь детектора позволяет регистрировать достаточно высокие значения скорости счета даже при малых размерах зоны измерения, что обеспечивает хорошую сходимость результатов измерения.
Приборы серий XDL и XDLM отличаются от XUL и XULM тем, что измерение в них производится снизу-вверх. Они спроектированы как удобные в использовании модульные настольные приборы, которые могут дооснащаться простой подставкой для образца, XY-платформами различных типов и вертикальными осями (Z) в зависимости от предъявляемых требований.
В модификации с программируемой XY-платформой приборы серии XDL могут использоваться для последовательного контроля изделий в автоматическом режиме. С их помощью можно легко сканировать поверхности и проверять их на предмет однородности. Для простого и быстрого позиционирования образца обеспечивается автоматическое перемещение (выдвижение) XY-платформы в загрузочное положение при открытии крышки прибора, а зона измерения обозначается лазерным указателем. Для крупных плоских образцов, таких как печатные платы, в корпусе предусмотрен С-образный боковой вырез. Благодаря измерительной камере большого объема с удобным доступом внутрь эти приборы подходят для измерений не только на плоских объектах, но и на крупных образцах сложной формы высотой до 140 мм. В приборах, оснащенных осью Z, расстояние измерения свободно устанавливается в диапазоне от 0 до 80 мм, что делает возможными измерения в выступах или на неровных объектах (с использованием метода DCM).
Опорная платформа для измеряемого образца:
|
XDL 210 |
XDL 220 |
XDL 230 |
XDL 240 |
---|---|---|---|---|
Исполнение |
Фиксированная платформа |
Фиксированная платформа |
Платформа, перемещаемая вручную в плоскости XY |
Платформа с программным управлением в плоскости XY |
Максимальное перемещение в плоскости XY |
– |
– |
95 х 105 мм |
255 х 235 мм |
Скорость перемещения в плоскости XY |
– |
– |
– |
≤ 80 мм/с |
Точность позиционирования в плоскости XY |
– |
– |
– |
≤ 0,01* мм |
Пространство для размещения образца |
463 х 500 мм |
463 х 500 мм |
420 х 450 мм |
300 х 350 мм |
Ось Z |
Фиксированное положение (наверху, посередине, внизу) |
Электрическое управление |
Электрическое управление |
Программное управление |
Перемещение по оси Z |
– |
140 мм |
140 мм |
140 мм |
Максимальный вес образца |
20 кг |
20 кг |
20 кг |
5 / 20** кг |
Максимальная высота образца |
155 / 90 / 25 мм |
140 мм |
140 мм |
140 мм |
Лазерный индикатор для точного размещения образца |
– |
– |
Есть |
Есть |
Используемый метод фундаментальных параметров позволяет анализировать образцы как в твердой, так и в жидкой фазе, а также покрытия без калибровки.
Измерительная система XDLM часто используется для измерения покрытий Au/Ni, Au/PdNi/Ni, Ag/ Ni или Sn/Ni по основам из различных материалов (например, сплавам меди или железа), роль которых играют соединители и контакты. Зачастую рабочей частью изделия служат мелкие структуры, такие как наконечники или острия, для которых необходимо использовать очень малые диафрагмы или диафрагмы специальной формы, чтобы свести к минимуму влияние геометрии образца. Например, при выполнении измерений на продолговатых образцах для получения максимальной интенсивности используют щелевые диафрагмы.